關于半導體超純水還原劑的使用案例

來源：凡清

時間：2025-10-30

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在半導體超純水（UPW）制備中，還原劑是守護水質純度與系統安全的關鍵藥劑，其核心作用是消除氧化性雜質、保護核心設備，直接影響芯片制程的良率與穩定性。隨著制程進入 3nm 時代，對還原劑的精準性與潔凈度提出了更高要求。?

還原劑的首要功能是中和氧化性污染物。反滲透預處理階段需投加還原劑去除余氯，避免含氯水體氧化損傷 RO 膜元件，這是保障后續純化效率的基礎。而在先進制程的超純水拋光系統中，光降解有機物產生的自由基復合氧化劑（如 H?O?）會腐蝕晶圓表面形成孔道，需通過還原劑高效淬滅，使其濃度控制在 1μg/L 以下。此外，還原劑與紫外線協同作用時，還能促進尿素等難降解雜質的分解，進一步提升水質純度。?

當前主流還原劑呈現明確的場景適配性，添加濃度需根據余氯含量精準調節，能在去除氧化劑的同時避免引入新的離子污染。

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應用中需嚴格把控關鍵參數：濃度需維持在 7-30ppm 區間，過低影響效果，過高則可能降低雜質分解效率；同時需匹配系統 pH 值與水溫，確保反應充分。此外，還原劑自身的純度至關重要，需控制金屬離子含量低于 0.05ng/L，避免造成二次污染。?

作為超純水制備的 “隱形守護者”，還原劑通過精準的氧化還原調控，為半導體制造提供了穩定可靠的高純介質支撐。